【印聯(lián)傳媒資訊】根據(jù)外電報導(dǎo)，美國能源部旗下的布魯克海文國家實驗室研究人員，日前宣布成功采用電子束印刷技術(shù)，成功制造了尺寸只有 1 納米的印刷設(shè)備。 據(jù)了解，這個實驗室的研究人員采用電子顯微鏡，制造出比普通電子束印刷(EBL)技術(shù)能做出的更小尺寸。 這使電子敏感性材料在聚焦電子束的作用下，尺寸得以大大縮小，達到可操縱單個原子的程度。 而這項技術(shù)與設(shè)備的誕生，則可極大的改變材料特性，從導(dǎo)電變成光傳輸，或這兩種狀態(tài)下交互執(zhí)行。
就目前發(fā)表的內(nèi)容觀察，1 納米印刷使用的是掃描投射電子顯微鏡(STEM)，隔開 11 納米，這樣一來每平方公厘就能實現(xiàn) 1 兆個特征點(features)的密度。 再透過偏差修正 STEM 在 5 納米半柵極在氫氧硅酸鹽類抗蝕劑下，實現(xiàn) 2 納米的分辨率。
雖然，這也不是科學(xué)家第一次達到 1 納米級別的技術(shù)，2016 年美國能源部下屬的另一個國家實驗室也宣布發(fā)展出 1 納米制程技術(shù)。 這部分使用的是納米碳管和二硫化鉬等新材料。 不過，不管是哪一邊開發(fā)出的新技術(shù)與設(shè)備，就目前觀察，這項技術(shù)都不會很快量產(chǎn)。 因為納米碳管晶體管跟 PMMA、電子束光刻一樣，跟目前的半導(dǎo)體制程技術(shù)有明顯差異。 因此，要讓廠商一下子全部淘汰現(xiàn)有設(shè)備，這還需要一段時間布局。
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